Intel eröffnet zweites Werk für 300-mm-Wafer in 45 nm
Die Herstellung von Prozessoren verläuft über runde Wafer, aus denen die einzelnen Prozessoren extrahiert werden. Je kleiner dabei der einzelne Prozessor ist, desto mehr Einheiten können aus einem Wafer gewonnen werden. Intel hat heute bekannt gegeben, ein
zweites Werk für in 45-nm-Bauweise gefertigte 300-mm-Wafer zu eröffnen. Momentan werden 5 Produktionsanlagen für 300-mm-Wafer betrieben, mit dem neuen Werk möchte man den Vorsprung weiter ausbauen. Eröffnet wird die Anlage in Kiryat Gat, Israel. 45 nm werden der nächste Schritt in der Fertigungstechnologie. Während der G5 in 90-nm-Bauweise gefertigt ist, wurden die neuen Intel-Prozessoren schon auf 65 nm geschrumpft, 2008 möchte man bei 45 nm angelangt sein. Je kleiner die Strukturbreite, desto niedriger ist die Leistungsaufnahme bzw. die Abwärme.
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